Penentuan Ketebalan Lapisan Al untuk Katalis pada Deposisi SiNW Menggunakan Transmitansi Optik

Peneliti : Andhy Setiawan, Altje Latununuwe, M. Ramdlan Kirom, Toto Winata, Sukirno

Abstrak : Pada deposisi SiNW diameter butiran katalis yang terbentuk pada tahap nukleasi berpengaruh pada pembentukan SiNW. Pembentukan butiran biasanya dilakukan dengan cara menumbuhkan lapisan tipis diikuti dengan proses annealing. Pada proses ini butiran yang terbentuk dipengaruhi oleh ketebalan lapisan tipis. Telah dilakukan penumbuhan lapisan tipis Al menggunakan metoda evaporasi termal. Pengukuran ketebalan dieksplorasi menggunakan karakterisasi SEM, AFM dan spektrometer UV-Vis. Berdasarkan hasil pencitraan dan data transmitansi optik melalui spektrometer UV-Vis diperoleh nilai koefisien attenuasi untuk setiap panjang gelombang yang digunakan. Penggunaan metoda transmitansi optik ini dapat digunakan sebagai alternatif dalam menentukan ketebalan lapisan Al yang berorde nanometer dalam rangkaian sintesis katalis untuk penelitian deposisi SiNW. Berdasarkan hasil eksperimen ini diperoleh cara sederana dalam menentukan ketebalan lapisan menggunakan spektrometer UV-Vis (pada panjang gelombang 300 nm sampai 820 nm).

Kata Kunci : Transmitansi optik, koefisien attenuasi, penentuan ketebalan, lapisan tipis, orde nanometer.

Untuk info selengkapnya silahkan tulis komentar anda.

Posted in: Pembuatan Film Tipis